Skipirzepski, Piotr ; Nowak, Piotr
Gaj, Miron. Redakcja ; Wilk, Ireneusz. Redakcja
Optica Applicata, Vol. 28, 1998, nr 3, s. 173-182
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
<sygn. PWr A3481II> ; kliknij tutaj, żeby przejść ; kliknij tutaj, żeby przejść
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 28, 1998 ; Optica Applicata, Vol. 28, 1998, nr 3 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
16 sty 2019
12 cze 2018
39
35
https://dbc.wroc.pl./publication/45512
Nazwa wydania | Data |
---|---|
Optimization of the optical granularity measurement conditions of model photographic layers | 16 sty 2019 |
Nowak, Piotr Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Rajkowski, Bogumił Nowak, Piotr Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Latacz, Leszek Nowak, Piotr Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Latacz, Leszek Nowak, Piotr Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Nowak, Piotr Rajkowski, Bogumił Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Drobnik, Agnieszka Nowak, Piotr Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Latacz, Leszek Nowak, Piotr Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Rajkowski, Bogumił Nowak, Piotr Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja