Tiesler, Maciej M. ; Witkowski, Jerzy S. ; Abramski, Krzysztof M.
Gaj, Miron. Redakcja ; Wilk, Ireneusz. Redakcja
Optica Applicata, Vol. 32, 2002, nr 1-2, s. 187-196
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
<sygn. PWr A3481II> ; kliknij tutaj, żeby przejść ; kliknij tutaj, żeby przejść
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 32, 2002 ; Optica Applicata, Vol. 32, 2002, nr 1-2 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
16 sty 2019
4 kwi 2018
217
216
https://dbc.wroc.pl./publication/44795
Nazwa wydania | Data |
---|---|
Quality criterion for numerical methods in EDFA modelling | 16 sty 2019 |
Tiesler, Maciej M. Budnicki, Aleksander Szkotnicki, Andrzej M. Pawlik, Elżbieta M. Abramski, Krzysztof M. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Abramski, Krzysztof M. Gaj, Kazimierz. Redakcja
Abramski, Krzysztof M. Besztak, K. Gaj, Kazimierz. Redakcja
Wysocki, Gerard Abramski, Krzysztof M. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Abramski, Krzysztof M. Trzaska, Hubert Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Pliński, Edward P. Abramski, Krzysztof M. Gaj, Kazimierz. Redakcja
Pliński, Edward Franciszek Abramski, Krzysztof M. Gaj, Kazimierz. Redakcja