Tiesler, Maciej M. ; Witkowski, Jerzy S. ; Abramski, Krzysztof M.
Gaj, Miron. Redakcja ; Wilk, Ireneusz. Redakcja
Optica Applicata, Vol. 32, 2002, nr 1-2, s. 187-196
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
<sygn. PWr A3481II> ; click here to follow the link ; click here to follow the link
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 32, 2002 ; Optica Applicata, Vol. 32, 2002, nr 1-2 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
Jan 16, 2019
Apr 4, 2018
217
216
https://dbc.wroc.pl./publication/44795
Edition name | Date |
---|---|
Quality criterion for numerical methods in EDFA modelling | Jan 16, 2019 |
Tiesler, Maciej M. Budnicki, Aleksander Szkotnicki, Andrzej M. Pawlik, Elżbieta M. Abramski, Krzysztof M. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Abramski, Krzysztof M. Gaj, Kazimierz. Redakcja
Abramski, Krzysztof M. Besztak, K. Gaj, Kazimierz. Redakcja
Wysocki, Gerard Abramski, Krzysztof M. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Abramski, Krzysztof M. Trzaska, Hubert Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Pliński, Edward P. Abramski, Krzysztof M. Gaj, Kazimierz. Redakcja
Pliński, Edward Franciszek Abramski, Krzysztof M. Gaj, Kazimierz. Redakcja