Zhang, Hanlu ; Wu, Zhensen ; Cao, Yunhua ; Zhang, Geng
Gaj, Miron. Redakcja ; Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Optica Applicata, Vol. 40, 2010, nr 1, s. 197-208
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
<sygn. PWr A3481II> ; kliknij tutaj, żeby przejść ; kliknij tutaj, żeby przejść
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 40, 2010 ; Optica Applicata, Vol. 40, 2010, nr 1 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
23 sty 2019
23 sty 2019
210
https://dbc.wroc.pl./publication/96777
Nazwa wydania | Data |
---|---|
Measurement and statistical modeling of BRDF of various samples | 23 sty 2019 |
Zhenrong, Zheng Jing, Zhou Peifu, Gu Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Yun-Hua, Cao Zhe, Wang Lu, Bai Zhensen, Wu Hai-Ying, Li Yan-Hui, Li Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Riviere, Nicolas Ceolato, Romain Hespel, Laurent Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Łukianowicz, Czesław Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Jaglarz, Janusz Wyszyński, Dominik Lach, Michał Mikuła, Janusz Duraj, Ryszard Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Otremba, Zbigniew Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Angelsky, Oleg V. Bogatyryova, Halina V. Polyanskii, Peter V. Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Wang, Dake Chasteen, Emily Onyeuku, Chisom Urbańczyk, Wacław. Redakcja