Zhang, Hanlu ; Wu, Zhensen ; Cao, Yunhua ; Zhang, Geng
Gaj, Miron. Redakcja ; Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Optica Applicata, Vol. 40, 2010, nr 1, s. 197-208
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
<sygn. PWr A3481II> ; click here to follow the link ; click here to follow the link
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 40, 2010 ; Optica Applicata, Vol. 40, 2010, nr 1 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
Jan 23, 2019
Jan 23, 2019
209
https://dbc.wroc.pl./publication/96777
Edition name | Date |
---|---|
Measurement and statistical modeling of BRDF of various samples | Jan 23, 2019 |
Zhenrong, Zheng Jing, Zhou Peifu, Gu Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Riviere, Nicolas Ceolato, Romain Hespel, Laurent Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Yun-Hua, Cao Zhe, Wang Lu, Bai Zhensen, Wu Hai-Ying, Li Yan-Hui, Li Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Łukianowicz, Czesław Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Jaglarz, Janusz Wyszyński, Dominik Lach, Michał Mikuła, Janusz Duraj, Ryszard Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Otremba, Zbigniew Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Kraszewski, Maciej Pluciński, Jerzy Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Strzelecka, Joanna Bosek, Maciej Grzegorzewski, Bronisław Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja