Zubel, Irena ; Rola, Krzysztof
Gaj, Miron. Redakcja ; Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Optica Applicata, Vol. 41, 2011, Nr 2, s. 417-422
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
<sygn. PWr A3481II> ; kliknij tutaj, żeby przejść ; kliknij tutaj, żeby przejść
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 41, 2011 ; Optica Applicata, Vol. 41, 2011, Nr 2 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
16 sty 2019
13 gru 2018
117
120
https://dbc.wroc.pl./publication/95514
Nazwa wydania | Data |
---|---|
Micromirrors inclined at 45° towards Si substrates fabricated by anisotropic etching | 16 sty 2019 |
Zubel, Irena Kramkowska, Małgorzata Ninierza, Tomasz Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Wojewoda, Henryk Gaj, Kazimierz. Redakcja
Wojewoda, Henryk Gaj, Kazimierz. Redakcja
Nalimov, I. P. Ovechkis, Yu. N. Fedchuk, I. U. Shakirov, A. Kh. Antonov, V. M. Zarutskii, L. P. Gaj, Miron. Redakcja
Goldys, E.M. Drozdowicz-Tomsia, K. Zhu, G. Yu, H. Jinjun, S. Motlan, M. Godlewski, M. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Magiera, A. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Wilk, Ireneusz Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja