Title:

Micromirrors inclined at 45° towards Si substrates fabricated by anisotropic etching

Group publication title:

Optica Applicata

Creator:

Zubel, Irena ; Rola, Krzysztof

Contributor:

Gaj, Miron. Redakcja ; Urbańczyk, Wacław. Redakcja

Subject and Keywords:

optyka ; micro-opto-electro-mechanical systems (MOEMS) ; micromirrors ; silicon anisotropic etching

Description:

Optica Applicata, Vol. 41, 2011, Nr 2, s. 417-422

Publisher:

Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej

Place of publication:

Wrocław

Date:

2011

Resource Type:

artykuł

Format:

application/pdf

Source:

<sygn. PWr A3481II> ; click here to follow the link ; click here to follow the link

Language:

eng

Relation:

Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 41, 2011 ; Optica Applicata, Vol. 41, 2011, Nr 2 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki

Rights:

Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)

Access Rights:

Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku

Location:

Politechnika Wrocławska