Zubel, Irena ; Rola, Krzysztof
Gaj, Miron. Redakcja ; Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Optica Applicata, Vol. 41, 2011, Nr 2, s. 417-422
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
<sygn. PWr A3481II> ; click here to follow the link ; click here to follow the link
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 41, 2011 ; Optica Applicata, Vol. 41, 2011, Nr 2 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
Jan 16, 2019
Dec 13, 2018
100
100
https://dbc.wroc.pl./publication/95514
Edition name | Date |
---|---|
Micromirrors inclined at 45° towards Si substrates fabricated by anisotropic etching | Jan 16, 2019 |
Zubel, Irena Kramkowska, Małgorzata Ninierza, Tomasz Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Jagoszewski, E. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Stádník, B. Jirásková, M. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Woźnicka, G. Kruszewski, J. Gutkowski, M. T. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Cojocaru, E. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Cotos, J. M. Arias, J. Tobar, A. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Dubik, B. Masajada, Jan Nowak, J. Zając, M. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Para, W. Śmietański, W. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja