Kucharska, Barbara ; Kulej, Edyta ; Wróbel, Anna
Optica Applicata, Vol. 42, 2012, Nr 4, s. 725-736
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
doi:10.5277/oa120404 ; oai:dbc.wroc.pl:55964
<sygn. PWr A3481II> ; kliknij tutaj, żeby przejść ; kliknij tutaj, żeby przejść
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 42, 2012 ; Optica Applicata, Vol. 42, 2012, Nr 4 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
15 sty 2019
30 lis 2018
112
119
https://dbc.wroc.pl./publication/91021
Nazwa wydania | Data |
---|---|
Thermal stability of the Cu/Ni multilayer system in X-ray diffraction and scanning microscopy examinations | 15 sty 2019 |
Kucharska, Barbara Wróbel, Anna Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Kucharska, Barbara Kulej, Edyta Kanak, Jarosław Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Reben, Manuela Burtan-Gwizdała, Bożena Cisowski, Jan Grelowska, Iwona Sayed Yousef, El Bukalska, Julita Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Kasperkowiak, Małgorzata Strzemiecka, Beata Voelkel, Adam Drzymała, Jan. Redakcja
Gębara, Piotr Pawlik, Piotr Kulej, Edyta Wysłocki, Jerzy J. Pawlik, Katarzyna Przybył, Anna Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Wojewoda, Henryk Gaj, Kazimierz. Redakcja
Wojewoda, Henryk Gaj, Kazimierz. Redakcja
Petru, František Gaj, Miron. Redakcja