Kullmann, Jens ; Enke, Dirk ; Thraenert, Stefan ; Krause-Rehberg, Reinhard ; Beiner, Mario
Optica Applicata, Vol. 42, 2012, Nr 2, s. 281-286
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
doi:10.5277/oa120205 ; oai:dbc.wroc.pl:54487
<sygn. PWr A3481II> ; kliknij tutaj, żeby przejść ; kliknij tutaj, żeby przejść
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 42, 2012 ; Optica Applicata, Vol. 42, 2012, Nr 2 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
15 sty 2019
23 lis 2018
49
42
https://dbc.wroc.pl./publication/88721
Kullmann, Jens Enke, Dirk Hahn, Thomas Bauerschaefer, Ulf Ledig, Lars Gai, Stefan Bochmann, Arne
Dvornikov, V. Korotkov, L. Naberezhnov, A. Fokin, A. Korotkova, T. Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Doycho, Igor K. Gevelyuk, Sergey A. Kovalenko, Mikola P. Prokopovich, Ludwig P. Rysiakiewicz-Pasek, Ewa Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Macalik, Bogusław Suszyńska, Maria Rysiakiewicz-Pasek, Ewa Krawczyk, Ludwina Morawska-Kowal, Teresa Okal, Janina Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Viter, Roman Geveluk, Sergey Smyntyna, Valentyn Doycho, Igor Rysiakiewicz-Pasek, Ewa Buk, Jan Kordas, Krisztian
Evstrapov, A.A. N.A. Esikova, N.A. Rudnitskaja, G.E. Antropova, T.V. Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Doycho, Igor K. Gevelyuk, Sergiy A. Ptashchenko, Olexandr O. Rysiakiewicz-Pasek, Ewa Tolmachova, Tetiana M. Tyurin, Olexandr V. Zhukov, Sergiy O. Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Antropova, Tatyana V. Anfimova, Irina N. Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja