Gierałtowska, Sylwia ; Wachnicki, Łukasz ; Witkowski, Bartłomiej S. ; Godlewski, Marek ; Guziewicz, Elżbieta
Optica Applicata, Vol. 43, 2013, nr 1, s. 17-25
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
doi:10.5277/oa130102 ; oai:dbc.wroc.pl:53954
<sygn. PWr A3481II> ; kliknij tutaj, żeby przejść ; kliknij tutaj, żeby przejść
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 43, 2013 ; Optica Applicata, Vol. 43, 2013, nr 1 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
16 sty 2019
20 lis 2018
57
53
https://dbc.wroc.pl./publication/87639
Nazwa wydania | Data |
---|---|
Properties of thin films of high-k oxides grown by atomic layer deposition at low temperature for electronic applications | 16 sty 2019 |
Krajewski, Tomasz A. Łuka, Grzegorz Wachnicki, Łukasz Jakieła, Rafał Witkowski, Bartłomiej Guziewicz, Elżbieta Godlewski, Marek Huby, Nolwenn Tallarida, Grazia Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Witkowski, Bartłomiej Sławomir Wachnicki, Łukasz Nowakowski, Piotr Suchocki, Andrzej Godlewski, Marek Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Szindler, Marek Szindler, Magdalena Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Dobrzański, Leszek A. Szindler, Marek Szindler, Magdalena Hajduk, Barbara Kotowicz, Sonia Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Godlewski, Marek Gaj, Kazimierz. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Tien, Chuen-Lin Mao, Hao-Sheng Mao, Tzu-Chi Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Guziewicz, Elżbieta Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Wójcik, Aleksandra Kopalko, Krzysztof Godlewski, Marek Łusakowska, Elżbieta Guziewicz, Elżbieta Minikayev, Roman Paszkowicz, Wojciech Świątek, Krzysztof Klepka, Marcin Jakieła, Rafał Kiecana, Michał Sawicki, Maciej Dybko, Krzysztof Phillips, Matthew R. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja