Obiekt
Tytuł: Changes in resistivity of giass containing cerium to ionizing radiation after photothermal processing
Autor:
Gębala, Stanisław ; Rysiakiewicz, Ewa
Współtwórca:
Opis:
Optica Applicata is an international journal, published in a non-periodical form in the years 1971-1973 and quarterly since 1973. From the beginning of the year 2008, Optica Applicata is an Open Access journal available online via the Internet, with free access to the full text of articles serving the best interests of the scientific community. The journal is abstracted and indexed in: Chemical Abstracts, Compendex, Current Contents, Inspec, Referativnyj Zhurnal, SCI Expanded, Scopus, Ulrich’s Periodicals Directory ; kliknij tutaj, żeby przejść ; Optica Applicata, Vol. 8, 1978, nr 4, s. 149-154
Wydawca:
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
Miejsce wydania:
Data wydania:
Typ zasobu:
Identyfikator zasobu:
Źródło:
<sygn. PWr A3481II> ; kliknij tutaj, żeby przejść ; kliknij tutaj, żeby przejść
Język:
Powiązania:
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 8, 1978 ; Optica Applicata, Vol. 8, 1978, nr 4 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Prawa:
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Prawa dostępu:
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
Lokalizacja oryginału:
Kolekcje, do których przypisany jest obiekt:
- Dolnośląska Biblioteka Cyfrowa > Uczestnicy Konsorcjum > 01. Politechnika Wrocławska > Czasopisma > Wydane w PWr > Optica Applicata
- Dolnośląska Biblioteka Cyfrowa > Zasoby > 2. Czasopisma > Czasopisma współczesne
- Dolnośląska Biblioteka Cyfrowa > Dziedziny nauki > 6. Nauki ścisłe i przyrodnicze
Data ostatniej modyfikacji:
16 sty 2019
Data dodania obiektu:
12 cze 2018
Liczba wyświetleń treści obiektu:
20
Liczba wyświetleń treści obiektu w formacie PDF
12
Wszystkie dostępne wersje tego obiektu:
https://dbc.wroc.pl./publication/53462
Wyświetl opis w formacie RDF:
Wyświetl opis w formacie OAI-PMH:
| Nazwa wydania | Data |
|---|---|
| Changes in resistivity of glass containing cerium to ionizing radiation after photothermal processing | 16 sty 2019 |
Podobne
Gębala, Stanisław Gaj, Miron. Redakcja
Gębala, Stanisław Gaj, Kazimierz. Redakcja
Gębala, Stanisław Gaj, Kazimierz. Redakcja
Gębala, Stanisław Gaj, Kazimierz. Redakcja
Gębala, Stanisław Gaj, Miron. Redakcja
Gębala, Stanisław Gaj, Miron. Redakcja
Gębala, Stanisław Gaj, Kazimierz. Redakcja
Gębala, Stanisław Sarzyński, Józef Gaj, Kazimierz. Redakcja
