Wyszukiwanie zaawansowane ?

Obiekt

Characterization of the different energy-gap multilayer structures using near field microscopy
Pobierz

Tytuł: Characterization of the different energy-gap multilayer structures using near field microscopy

Autor:

Sikora, Andrzej ; Szeloch, Roman ; Prociów, Eugeniusz

Współtwórca:

Gaj, Miron. Redakcja ; Urbańczyk, Wacław. Redakcja

Opis:

Optica Applicata, Vol. 39, 2009, nr 4, s. 943-950

Abstrakt:

One of the materials which can be used in high-temperature electronic devices is silicon carbide (SiC). Its properties are very promising, however, a number of technological issues must be solved first, and complex phenomena connected with contact development must be investigated. In this paper, some results the measurements of electrical parameters of the silicon carbide based multilayer SiC:Zr-NiCrSi-Ag systems developed on glass substrate by magnetron co-sputtering method from compositional target are presented. This system was tested electrically as potentially useful to SiC and TiO2 layers contact. Due to the presence of potential barriers, observed with conventional methods, one should use a more precise and sophisticated instrument. One of the important tools which can be used in order to obtain the information about morphological and electrical properties of the surface is the near-field microscopy. Two modes were used during the measurements: EFM (electrostatic force microscopy) and SP (surface potential imaging). Those techniques allow obtaining several sets of data describing different properties of the sample. Moreover, its sophisticated nature delivers the information in submicron scale and no influence on the structure and phenomena is introduced. Also the multichannel data acquisition allows a certain amount of data concerning signals to be collected, which is very useful for the analysis of results in order to identify the presence of artifacts. Some results obtained during preliminary work are hereby presented and described.

Wydawca:

Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej

Miejsce wydania:

Wrocław

Data wydania:

2009

Typ zasobu:

artykuł

Identyfikator zasobu:

oai:dbc.wroc.pl:62724

Źródło:

<sygn. PWr A3481II> ; kliknij tutaj, żeby przejść ; kliknij tutaj, żeby przejść

Język:

eng

Powiązania:

Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 39, 2009 ; Optica Applicata, Vol. 39, 2009, nr 4 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki

Prawa:

Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)

Prawa dostępu:

Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku

Lokalizacja oryginału:

Politechnika Wrocławska

Tytuł publikacji grupowej:

Optica Applicata

Temat i słowa kluczowe:

optyka thin films contact phenomena near field microscopy AFM silicon carbide

Kolekcje, do których przypisany jest obiekt:

Data ostatniej modyfikacji:

15 mar 2019

Data dodania obiektu:

15 mar 2019

Liczba wyświetleń treści obiektu:

32

Wszystkie dostępne wersje tego obiektu:

https://dbc.wroc.pl./publication/112209

Wyświetl opis w formacie RDF:

RDF

Wyświetl opis w formacie OAI-PMH:

OAI-PMH

Nazwa wydania Data
Characterization of the different energy-gap multilayer structures using near field microscopy 15 mar 2019

Podobne

Optica Applicata
Optica Applicata

Cr ohmic contact on an Ar+ ion modified 6H-SiC(0001) surface

Grodzicki, Miłosz Chrzanowski, Jan Mazur, Piotr Zuber, Stefan Ciszewski, Antoni Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja

2009
artykuł
Optica Applicata
Optica Applicata

Thermal characterization of micro-devices with far and near field microscopy

Szeloch, Roman F. Gotszalk, Teodor Paweł Janus, Paweł Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja

2003
artykuł
Optica Applicata
Optica Applicata

Formation of Cr ohmic contact on graphitized 6H-SiC(0001) surface

Grodzicki, Miłosz Mazur, Piotr Wasielewski, Radosław Ciszewski, Antoni Urbańczyk, Wacław. Redakcja

2013
artykuł
Optica Applicata
Optica Applicata

Uncertainty of atomic force microscopy measurements

Gotszalk, Teodor P. Janus, Paweł Marendziak, Andrzej Szeloch, Roman F. Gaj, Miron. Redakcja

2007
artykuł
Optica Applicata
Optica Applicata

Porous glasses as a substrate for sensor elements

Evstrapov, Anatoly Esikova, Nadya Rudnitskaya, Galina Antropova, Tatyana V. Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja

2010
artykuł
Optica Applicata
Optica Applicata

The impact of the light exposure on the morphological properties of selected photoresists

Sikora, Andrzej Janus, Paweł Sierakowski, Andrzej Urbańczyk, Wacław. Redakcja

2019
artykuł
Optica Applicata
Optica Applicata

The influence of the electrical field on structures dimension measurement in electrostatic force microscopy mode

Sikora, Andrzej Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja

2009
artykuł
Optica Applicata
Optica Applicata

Electrical and photoelectric characterization of the MOS structures on 3C–SiC substrate

Piskorski, Krzysztof Przewłocki, Henryk M. Esteve, Romain Bakowski, Mietek Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja

2011
artykuł
Więcej
×

Cytowanie

Styl cytowania:

Dane kontaktowe

Adres

Politechnika Wrocławska (Koordynator Konsorcjum DBC)
Biblioteka Politechniki Wrocławskiej
Wybrzeże Wyspiańskiego 27
50-370 Wrocław, Polska

Telefon

(+48) 71-320-38-30
(+48) 71-320-47-50

E-Mail

bc@pwr.edu.pl

Odwiedź nas!

https://biblioteka.pwr.edu.pl/

Ta strona wykorzystuje pliki 'cookies'. Więcej informacji