Electrical and optical properties of NiO films deposited by magnetron sputtering
Tytuł publikacji grupowej: Autor:Guziewicz, Marek ; Grochowski, Jakub ; Borysiewicz, Michał ; Kamińska, Eliana ; Domagała, Jarosław Z. ; Rzodkiewicz, Witold ; Witkowski, Bartłomiej S. ; Gołaszewska, Krystyna ; Kruszka, Renata ; Ekielski, Marek ; Piotrowska, Anna
Współtwórca:Gaj, Miron. Redakcja ; Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Temat i słowa kluczowe:optyka ; transparent conductive oxide ; NiO ; p-type semiconductor ; optical transmittance
Opis:Optica Applicata, Vol. 41, 2011, Nr 2, s. 431-440
Wydawca:Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
Miejsce wydania: Data wydania: Typ zasobu: Format: Źródło:<sygn. PWr A3481II> ; kliknij tutaj, żeby przejść ; kliknij tutaj, żeby przejść
Język: Powiązania:Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 41, 2011 ; Optica Applicata, Vol. 41, 2011, Nr 2 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Prawa:Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Prawa dostępu:Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
Lokalizacja oryginału: