Serafińczuk, Jarosław ; Pietrucha, Jakub ; Schroeder, Grzegorz ; Gotszalk, Teodor P.
Gaj, Miron. Redakcja ; Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Optica Applicata, Vol. 41, 2011, Nr 2, s. 315-322
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
<sygn. PWr A3481II> ; kliknij tutaj, żeby przejść ; kliknij tutaj, żeby przejść
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 41, 2011 ; Optica Applicata, Vol. 41, 2011, Nr 2 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
16 sty 2019
12 gru 2018
2 619
2606
https://dbc.wroc.pl./publication/95185
Nazwa wydania | Data |
---|---|
Thin film thickness determination using X-ray reflectivity and Savitzky–Golay algorithm | 16 sty 2019 |
Gotszalk, Teodor P. Janus, Paweł Marendziak, Andrzej Szeloch, Roman F. Gaj, Miron. Redakcja
Skwierczyński, Jan M. Małozięć, Grzegorz Kopiec, Daniel Nieradka, Konrad Radojewski, Jacek Gotszalk, Teodor P. Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Korbutowicz, Ryszard Wnęk, Jan Panachida, Paweł Serafińczuk, Jarosław Srnanek, Rudolf Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Serafińczuk, Jarosław Pawlaczyk, Łukasz Podhorodecki, Artur Gaponenko, Nikolai Molchan, Igor Thompson, George Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Motyka, Marcin Gelczuk, Łukasz Dąbrowska-Szata, Maria Serafińczuk, Jarosław Kudrawiec, Robert Misiewicz, Jan Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Serafińczuk, Jarosław Dziedzic, Andrzej. Promotor
Jagoszewski, E. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Stádník, B. Jirásková, M. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja