Optica Applicata, Vol. 42, 2012, Nr 3, s. 533-543
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
doi:10.5277/oa120309 ; oai:dbc.wroc.pl:55519
<sygn. PWr A3481II> ; kliknij tutaj, żeby przejść ; kliknij tutaj, żeby przejść
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 42, 2012 ; Optica Applicata, Vol. 42, 2012, Nr 3 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
15 sty 2019
29 lis 2018
47
43
https://dbc.wroc.pl./publication/90551
Nazwa wydania | Data |
---|---|
The infrared transmittance model for in-situ monitoring of diamond on quartz deposition process | 15 sty 2019 |
Jaglarz, Janusz Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Kosmala, Michał Regiński, Kazimierz Kosiel, Kamil Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Novikov, Alexander F. Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Kowalczuk, Przemysław B. Akkaya, Candogan Ergun, Mahmut Janicki, Mikołaj Sahbaz, Oktay Drzymała, Jan Drzymała, Jan. Redakcja
Uçurum, Metin Malgir, Eda Deligezen, Hamdi Karaer, Necmettin Avşar, Mustafa Drzymała, Jan. Redakcja
Wojewoda, Henryk Gaj, Kazimierz. Redakcja
Wojewoda, Henryk Gaj, Kazimierz. Redakcja
Nalimov, I. P. Ovechkis, Yu. N. Fedchuk, I. U. Shakirov, A. Kh. Antonov, V. M. Zarutskii, L. P. Gaj, Miron. Redakcja