Grodzicki, Miłosz ; Wasielewski, Radosław ; Mazur, Piotr ; Zuber, Stefan ; Ciszewski, Antoni
Optica Applicata, Vol. 43, 2013, nr 1, s. 99-107
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
doi:10.5277/oa130113 ; oai:dbc.wroc.pl:54012
<sygn. PWr A3481II> ; kliknij tutaj, żeby przejść ; kliknij tutaj, żeby przejść
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 43, 2013 ; Optica Applicata, Vol. 43, 2013, nr 1 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
16 sty 2019
21 lis 2018
58
54
https://dbc.wroc.pl./publication/87812
Nazwa wydania | Data |
---|---|
TiO2 thin films grown on SiO2–Si(111) by the reactive evaporation method | 16 sty 2019 |
Grodzicki, Miłosz Mazur, Piotr Wasielewski, Radosław Ciszewski, Antoni Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Grodzicki, Miłosz Chrzanowski, Jan Mazur, Piotr Zuber, Stefan Ciszewski, Antoni Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Nocuń, Marek Burcon, Dorota Siwulski, Stanisław Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Changshi, Liu Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Nocuń, Marek Zontek, Joanna Kwaśny, Sławomir
Hwang, Kyu-Seog Jeon, Young-Sun Jeon, Kyung-Ok Kim, Byung-Hoon Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Borkowska, Agnieszka Domaradzki, Jarosław Kaczmarek, Danuta Gaj, Miron. Redakcja
Domaradzki, Jarosław Borkowska, Agnieszka Kaczmarek, Danuta Prociów, Eugeniusz L. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja