Wilk, Ireneusz. Redakcja ; Gaj, Miron. Redakcja
Optica Applicata, Vol. 25, 1995, nr 4, s. 319-324
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
<sygn. PWr A3481II> ; kliknij tutaj, żeby przejść ; kliknij tutaj, żeby przejść
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 25, 1995 ; Optica Applicata, Vol. 25, 1995, nr 4 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
16 sty 2019
29 cze 2018
22
18
https://dbc.wroc.pl./publication/53484
Nazwa wydania | Data |
---|---|
Simplified model to explain the lateral focus displacement during high-power laser material processing | 16 sty 2019 |
Cojocaru, E. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Cojocaru, E. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Cojocaru, E. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Cojocaru, E. Gaj, Kazimierz. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Cojocaru, E. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Cojocaru, E. Wilk, Ireneusz. Redakcja Gaj, Miron. Redakcja
Cojocaru, E. Gaj, Miron. Redakcja
Cojocaru, E. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja