Object
Title: Plasma dry etching of monocrystalline silicon for the microsystem technology
Creator:
Contributor:
Gaj, Miron. Redakcja ; Wilk, Ireneusz. Redakcja
Description:
Optica Applicata, Vol. 32, 2002, nr 3, s. 339-346
Publisher:
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
Place of publication:
Date:
Resource Type:
Resource Identifier:
Source:
<sygn. PWr A3481II> ; click here to follow the link ; click here to follow the link
Language:
Relation:
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 32, 2002 ; Optica Applicata, Vol. 32, 2002, nr 3 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Rights:
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Access Rights:
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
Location:
Object collections:
- Lower Silesian Digital Library > Participants of the Consortium > 01. Wrocław University of Science and Technology > Journals WUoT > Journals published at Wrocław University of Technology > Optica Applicata
- Lower Silesian Digital Library > Resources > 2. Czasopisma > Czasopisma współczesne
- Lower Silesian Digital Library > Fields of science > 6. Nauki ścisłe i przyrodnicze
Last modified:
Jan 16, 2019
In our library since:
Apr 4, 2018
Number of object content hits:
57
Number of object content views in PDF format
57
All available object's versions:
https://dbc.wroc.pl./publication/44820
Show description in RDF format:
Show description in OAI-PMH format:
| Edition name | Date |
|---|---|
| Plasma dry etching of monocrystalline silicon for the microsystem technology | Jan 16, 2019 |
Similar
Górecka-Drzazga, Anna Gaj, Miron. Redakcja
Grzebyk, Tomasz Stasiak, Paweł Górecka-Drzazga, Anna Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Wojewoda, Henryk Gaj, Kazimierz. Redakcja
Wojewoda, Henryk Gaj, Kazimierz. Redakcja
Litwin, D. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Kaps, Ch. Schubert, R. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Antropova, Tatiana V. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
