Qin, Cui ; Shen, Weikang ; Zhao, Jing ; Yu, Huilong ; Xu, Enming
Optica Applicata, Vol. 45, 2015, nr 2, s. 163-172
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
doi:10.5277/oa150203 ; oai:dbc.wroc.pl:37640
<sygn. PWr A3481II> ; kliknij tutaj, żeby przejść ; kliknij tutaj, żeby przejść
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 45, 2015, nr 2 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
16 sty 2019
16 paź 2017
57
49
https://dbc.wroc.pl./publication/41657
Nazwa wydania | Data |
---|---|
Polarization dependence of patterning effects in quantum well semiconductor optical amplifier-based wavelength conversion | 16 sty 2019 |
Ab-Rahman, Mohammad Syuhaimi Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Lu, Youxi Wang, Fei Gu, Jun Shi, Lun Peng, Mengmeng Huang, Jingxin Kang, Wen Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Patra, Ardhendu S. Khare, Alika Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Kravtsov, Yury A. Bieg, Bohdan Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Xu, Xiaobin Zhang, Zhihao An, Minghua Teng, Fei Zhang, Zuchen Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Baraket, Zina Zaghdoudi, Jihene Kanzari, Mounir Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Rodríguez-Zurita, G. Vázquez-Castillo, J. F. Toto-Arellano, N. I. Calderón-Hernández, G. Barojas-Gutiérrez, E. Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Fitio, Volodymyr M. Bobitski, Yaroslav V. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja