Nocuń, Marek ; Środa, Marcin ; Ciecińska, Małgorzata
Optica Applicata, Vol. 45, 2015, nr 1, s. 125-134
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
doi:10.5277/oa150112 ; oai:dbc.wroc.pl:37636
<sygn. PWr A3481II> ; kliknij tutaj, żeby przejść ; kliknij tutaj, żeby przejść
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 45, 2015, nr 1 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
16 sty 2019
16 paź 2017
58
50
https://dbc.wroc.pl./publication/41653
Nazwa wydania | Data |
---|---|
Chemical resistance of SiO2 layers obtained by the sol–gel technique on a glass substrate | 16 sty 2019 |
Nocuń, Marek Kwaśny, Sławomir
Nocuń, Marek Zontek, Joanna Kwaśny, Sławomir
Nocuń, Marek Kwaśny, Sławomir Zontek, Joanna Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Nocuń, Marek Burcon, Dorota Siwulski, Stanisław Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Kozłowska, Katarzyna Łukowiak, Anna Szczurek, Andrzej Dudek, Krzysztof Maruszewski, Krzysztof Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Karasiński, Paweł Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Karasiński, Paweł Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Hołowacz, Iwona Ulatowska-Jarża, Agnieszka Wysocka, Katarzyna Głuchowski, Paweł Stręk, Wiesław Podbielska, Halina Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja