Dąbrowska, Elżbieta ; Teodorczyk, Marian ; Szymański, Michał ; Maląg, Andrzej
Optica Applicata, Vol. 50, 2020, nr 4, s. 593-607
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
doi:10.37190/oa200407 ; oai:dbc.wroc.pl:109549
<sygn. PWr A3481II> ; kliknij tutaj, żeby przejść ; kliknij tutaj, żeby przejść
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 50, 2020 ; Optica Applicata, Vol. 50, 2020, nr 4 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
12 kwi 2021
12 kwi 2021
121
https://dbc.wroc.pl./publication/151510
Nazwa wydania | Data |
---|---|
Optimization of technology of diode laser mirror processing to maximize the threshold of catastrophic optical degradation | 12 kwi 2021 |
Piwoński, Tomasz Wawer, Dorota Szymański, Michał Ochalski, Tomasz Bugajski, Maciej Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Szymański, Michał Zbroszczyk, Mariusz Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Hajdel, Mateusz Muzioł, Grzegorz Nowakowski-Szkudlarek, Krzesimir Siekacz, Marcin Wolny, Paweł Skierbiszewski, Czesław Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Rakowski, R. Bartnik, A. Fiedorowicz, H. Jarocki, R. Kostecki, J. Krzywiński, J. Mikołajczyk, J. Pina, L. Ryc, L. Szczurek, M. Ticha, H. Wachulak, P. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Holc, Katarzyna Bielecki, Zbigniew Wojtas, Jacek Perlin, Piotr Goss, Jakub Czyżewski, Adam Magryta, Paweł Stacewicz, Tadeusz Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Mroczkowski, Mateusz Cież, Michał Kalenik, Jerzy Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Chen, Hsiang Kao, Chyuan-Haur Lu, Tien-Chang Shei, Shih-Chang Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Veleschuk, Vitaly Vlasenko, Alexander Kisselyuk, Maxim Vlasenko, Zoya Khmil, Denis Borshch, Vladimir Urbańczyk, Wacław. Redakcja