Kruk, Andrzej ; Jany, Benedykt R. ; Owczarczyk, Karolina ; Madej, Dominika
Optica Applicata, Vol. 49, 2019, nr 2, s. 355-364
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
doi:10.5277/oa190215 ; oai:dbc.wroc.pl:109435
<sygn. PWr A3481II> ; kliknij tutaj, żeby przejść ; kliknij tutaj, żeby przejść
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 49, 2019 ; Optica Applicata, Vol. 49, 2019, nr 2 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
9 kwi 2021
9 kwi 2021
99
https://dbc.wroc.pl./publication/151383
Nazwa wydania | Data |
---|---|
On the possibility of using arc plasma melting technique in preparation of transparent yttria ceramics | 9 kwi 2021 |
Kruk, Andrzej Wajler, Anna Mrózek, Waldemar Zych, Łukasz Gawlik, Wojciech Brylewski, Tomasz Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Tsoi, P. Gololobov, N. Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Siwulski, Stanisław Nocuń, Marek Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Pisarska, Joanna Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Bao, Ying Lan, Jingheng Miao, Yu Zhang, Dawei Gao, Xiumin Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Sieradzka, Karolina Wojcieszak, Damian Kaczmarek, Danuta Domaradzki, Jarosław Kiriakidis, George Aperathitis, Elias Kambilafka, Vicky Placido, Frank Song, Shigeng Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Reisfeld, Renata Saraidarov, Tsiala Minti, Harry Wodnicka, Krystyna Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Nocuń, Marek Pająk, Zuzanna Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja