Sikora, Andrzej ; Janus, Paweł ; Sierakowski, Andrzej
Optica Applicata, Vol. 49, 2019, nr 1, s. 177-185
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
doi:10.5277/oa190116 ; oai:dbc.wroc.pl:109420
<sygn. PWr A3481II> ; kliknij tutaj, żeby przejść ; kliknij tutaj, żeby przejść
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 49, 2019 ; Optica Applicata, Vol. 49, 2019, nr 1 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
8 kwi 2021
8 kwi 2021
16
https://dbc.wroc.pl./publication/151352
Nazwa wydania | Data |
---|---|
The impact of the light exposure on the morphological properties of selected photoresists | 8 kwi 2021 |
Gotszalk, Teodor P. Janus, Paweł Marendziak, Andrzej Szeloch, Roman F. Gaj, Miron. Redakcja
Sikora, Andrzej Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Szyszka, Adam Ściana, Beata Radziewicz, Damian Macherzyński, Wojciech Paszkiewicz, Bogdan Tłaczała, Marek Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Kucharska, Barbara Kulej, Edyta Kanak, Jarosław Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Kołodziej, Andrzej Baranowski, Witold Kusior, Edward Kanak, Jarosław Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Dośpiał, Marcin Nabiałek, Marcin Szota, Michał Michta, Łukasz Wieczorek, Paweł Błoch, Katarzyna Pietrusiewicz, Paweł Oźga, Katarzyna Michalczyk, Jacek Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Jasik, Agata Sass, Jerzy Mazur, Krystyna Wesołowski, Marek Gaj, Miron. Redakcja
Sikora, Andrzej Urbańczyk, Wacław. Redakcja