Nocuń, Marek ; Środa, Marcin ; Ciecińska, Małgorzata
Optica Applicata, Vol. 45, 2015, nr 1, s. 125-134
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
<sygn. PWr A3481II> ; click here to follow the link ; click here to follow the link
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 45, 2015, nr 1 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
Jan 16, 2019
Oct 16, 2017
58
50
https://dbc.wroc.pl./publication/41653
Edition name | Date |
---|---|
Chemical resistance of SiO2 layers obtained by the sol–gel technique on a glass substrate | Jan 16, 2019 |
Nocuń, Marek Kwaśny, Sławomir
Nocuń, Marek Zontek, Joanna Kwaśny, Sławomir
Nocuń, Marek Kwaśny, Sławomir Zontek, Joanna Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Nocuń, Marek Burcon, Dorota Siwulski, Stanisław Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Kozłowska, Katarzyna Łukowiak, Anna Szczurek, Andrzej Dudek, Krzysztof Maruszewski, Krzysztof Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Karasiński, Paweł Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Karasiński, Paweł Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Hołowacz, Iwona Ulatowska-Jarża, Agnieszka Wysocka, Katarzyna Głuchowski, Paweł Stręk, Wiesław Podbielska, Halina Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja