Kołodziej, Andrzej ; Baranowski, Witold ; Kusior, Edward ; Kanak, Jarosław
Gaj, Miron. Redakcja ; Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Optica Applicata, Vol. 41, 2011, Nr 2, s. 449-454
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
<sygn. PWr A3481II> ; kliknij tutaj, żeby przejść ; kliknij tutaj, żeby przejść
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 41, 2011 ; Optica Applicata, Vol. 41, 2011, Nr 2 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
16 sty 2019
14 gru 2018
55
68
https://dbc.wroc.pl./publication/95690
Nazwa wydania | Data |
---|---|
X-ray, AFM, UV–VIS–IR analysis of a-Si:H/μc-Si:H supperlattice structure | 16 sty 2019 |
Kucharska, Barbara Kulej, Edyta Kanak, Jarosław Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Jasik, Agata Sass, Jerzy Mazur, Krystyna Wesołowski, Marek Gaj, Miron. Redakcja
Gębara, Piotr Pawlik, Piotr Kulej, Edyta Wysłocki, Jerzy J. Pawlik, Katarzyna Przybył, Anna Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Gotszalk, Teodor P. Janus, Paweł Marendziak, Andrzej Szeloch, Roman F. Gaj, Miron. Redakcja
Sikora, Andrzej Janus, Paweł Sierakowski, Andrzej Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Sikora, Andrzej Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Hariri, A. Sarikhani, S. Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Li, Yao Su, Tong Sheng, Lizhi Xu, Neng Zhao, Baosheng Urbańczyk, Wacław. Redakcja