Oleszkiewicz, Waldemar ; Markowski, Janusz ; Srnanek, Rudolf ; Kijaszek, Wojciech ; Gryglewicz, Jacek ; Kovac, Jaroslav ; Tłaczała, Marek
Optica Applicata, Vol. 43, 2013, nr 1, s. 109-115
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
doi:10.5277/oa130114 ; oai:dbc.wroc.pl:54014
<sygn. PWr A3481II> ; click here to follow the link ; click here to follow the link
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 43, 2013 ; Optica Applicata, Vol. 43, 2013, nr 1 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
Jan 16, 2019
Nov 21, 2018
89
84
https://dbc.wroc.pl./publication/87815
Edition name | Date |
---|---|
Influence of RF ICP PECVD process parameters of diamond-like carbon films on DC bias and optical emission spectra | Jan 16, 2019 |
Kijaszek, Wojciech Oleszkiewicz, Waldemar Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Ściana, Beata Radziewicz, Damian Pucicki, Damian Tłaczała, Marek Kováč, Jaroslav Srnanek, Rudolf Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Ramiączek-Krasowska, Maria Szyszka, Adam Prażmowska, Joanna Paszkiewicz, Regina Tłaczała, Marek Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Ramiączek-Krasowska, Maria Szyszka, Adam Stafiniak, Andrzej Paszkiewicz, Regina Paszkiewicz, Bogdan Tłaczała, Marek Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Ochalski, Tomasz J. Piwoński, Tomasz Wawer, Dorota Pierściński, Kamil Bugajski, Maciej Kozłowska, Anna Maląg, Andrzej Tomm, Jens W. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Łozińska, Adriana Badura, Mikołaj Jadczak, Joanna Bielak, Katarzyna Ściana, Beata Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Szyszka, Adam Ściana, Beata Radziewicz, Damian Macherzyński, Wojciech Paszkiewicz, Bogdan Tłaczała, Marek Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Wośko, Mateusz Paszkiewicz, Bogdan Radziewicz, Damian Ściana, Beata Paszkiewicz, Regina Tłaczała, Marek Kovac, Jaroslav Vincze, Andrej Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja