Grodzicki, Miłosz ; Wasielewski, Radosław ; Mazur, Piotr ; Zuber, Stefan ; Ciszewski, Antoni
Optica Applicata, Vol. 43, 2013, nr 1, s. 99-107
Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
<sygn. PWr A3481II> ; click here to follow the link ; click here to follow the link
Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 43, 2013 ; Optica Applicata, Vol. 43, 2013, nr 1 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
Jan 16, 2019
Nov 21, 2018
51
44
https://dbc.wroc.pl./publication/87812
Edition name | Date |
---|---|
TiO2 thin films grown on SiO2–Si(111) by the reactive evaporation method | Jan 16, 2019 |
Grodzicki, Miłosz Mazur, Piotr Wasielewski, Radosław Ciszewski, Antoni Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Grodzicki, Miłosz Chrzanowski, Jan Mazur, Piotr Zuber, Stefan Ciszewski, Antoni Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Changshi, Liu Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Nocuń, Marek Zontek, Joanna Kwaśny, Sławomir
Nocuń, Marek Burcon, Dorota Siwulski, Stanisław Gaj, Miron. Redakcja Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Hwang, Kyu-Seog Jeon, Young-Sun Jeon, Kyung-Ok Kim, Byung-Hoon Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Domaradzki, Jarosław Borkowska, Agnieszka Kaczmarek, Danuta Prociów, Eugeniusz L. Gaj, Miron. Redakcja Wilk, Ireneusz. Redakcja
Borkowska, Agnieszka Domaradzki, Jarosław Kaczmarek, Danuta Gaj, Miron. Redakcja