Title:

Exposition time analysis of AlGaN/GaN HEMT fabrication by electron beam lithography

Group publication title:

Optica Applicata

Creator:

Indykiewicz, Kornelia ; Paszkiewicz, Bogdan ; Paszkiewicz, Regina

Contributor:

Urbańczyk, Wacław. Redakcja

Subject and Keywords:

optyka ; electron beam lithography (EBL) ; device fabrication ; exposition time reduction

Description:

Optica Applicata, Vol. 49, 2019, nr 1, s. 161-166

Publisher:

Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej

Place of publication:

Wrocław

Date:

2019

Resource Type:

artykuł

Resource Identifier:

doi:10.5277/oa190114

Source:

<sygn. PWr A3481II> ; click here to follow the link ; click here to follow the link

Language:

eng

Relation:

Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 49, 2019 ; Optica Applicata, Vol. 49, 2019, nr 1 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki

Rights:

Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)

Access Rights:

Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku

Location:

Politechnika Wrocławska