Rakowski, R. ; Bartnik, A. ; Fiedorowicz, H. ; Jarocki, R. ; Kostecki, J. ; Krzywiński, J. ; Mikołajczyk, J. ; Pina, L. ; Ryc, L. ; Szczurek, M. ; Ticha, H. ; Wachulak, P.
Contributor:Gaj, Miron. Redakcja ; Wilk, Ireneusz. Redakcja
Subject and Keywords:optyka ; laser-produced plasma extreme ultraviolet (EUV) source ; gas puff target ; Mo/Si mirrors ; EUV spectroscopy
Description:Optica Applicata, Vol. 36, 2006, nr 4, s. 593-600
Abstrakt: Publisher:Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
Place of publication: Date: Resource Type: Source:<sygn. PWr A3481II> ; click here to follow the link ; click here to follow the link
Language: Relation:Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 36, 2006 ; Optica Applicata, Vol. 36, 2006, nr 4 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Rights:Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Access Rights:Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
Location: