Title:

Influence of high Al fraction on reactive ion etching of AlGaN/GaN heterostructures

Group publication title:

Optica Applicata

Creator:

Gryglewicz, Jacek ; Stafiniak, Andrzej ; Wośko, Mateusz ; Prażmowska, Joanna ; Paszkiewicz, Bogdan

Contributor:

Urbańczyk, Wacław. Redakcja

Subject and Keywords:

optyka ; reactive ione etching ; HEMT ; AlGaN/GaN heterostructure

Description:

Optica Applicata, Vol. 43, 2013, nr 1, s. 27-33

Publisher:

Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej

Place of publication:

Wrocław

Date:

2013

Resource Type:

artykuł

Format:

application/pdf

Resource Identifier:

doi:10.5277/oa130103

Source:

<sygn. PWr A3481II> ; click here to follow the link ; click here to follow the link

Language:

eng

Relation:

Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 43, 2013 ; Optica Applicata, Vol. 43, 2013, nr 1 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki

Rights:

Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)

Access Rights:

Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku

Location:

Politechnika Wrocławska