Title:

Accurate interference pattern analysis module of automatic measurement system

Group publication title:

Optica Applicata

Creator:

Whang, Allen J. ; Chung, Chi-Kuei

Contributor:

Gaj, Miron. Redakcja ; Wilk, Ireneusz. Redakcja

Subject and Keywords:

optyka ; automatic measurement system ; interferometry ; integrate with interferometers ; error-compensating algorithms

Description:

Optica Applicata, Vol. 33, 2003, nr 4, s. 627-634

Publisher:

Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej

Place of publication:

Wrocław

Date:

2003

Resource Type:

artykuł

Format:

application/pdf

Source:

<sygn. PWr A3481II> ; click here to follow the link ; click here to follow the link

Language:

eng

Relation:

Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 33, 2003 ; Optica Applicata, Vol. 33, 2003, nr 4 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki

Rights:

Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)

Access Rights:

Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku

Location:

Politechnika Wrocławska