Title:

Improvement of the electron beam lithography contact pads fabrication process

Group publication title:

Optica Applicata

Creator:

Indykiewicz, Kornelia ; Paszkiewicz, Regina ; Paszkiewicz, Bogdan

Contributor:

Urbańczyk, Wacław. Redakcja

Subject and Keywords:

optyka ; electron beam lithography (EBL) ; exposition of big areas ; exposition time optimization

Description:

Optica Applicata, Vol. 46, 2016, nr 2, s. 249-254

Publisher:

Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej

Place of publication:

Wrocław

Date:

2016

Resource Type:

artykuł

Format:

application/pdf

Resource Identifier:

doi:10.5277/oa160209

Source:

<sygn. PWr A3481II> ; click here to follow the link ; click here to follow the link

Language:

eng

Relation:

Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 46, 2016, nr 2 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki

Rights:

Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)

Access Rights:

Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku

Location:

Politechnika Wrocławska