Tytuł:

Improvement of the electron beam lithography contact pads fabrication process

Tytuł publikacji grupowej:

Optica Applicata

Autor:

Indykiewicz, Kornelia ; Paszkiewicz, Regina ; Paszkiewicz, Bogdan

Współtwórca:

Urbańczyk, Wacław. Redakcja

Temat i słowa kluczowe:

optyka ; electron beam lithography (EBL) ; exposition of big areas ; exposition time optimization

Opis:

Optica Applicata, Vol. 46, 2016, nr 2, s. 249-254

Wydawca:

Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej

Miejsce wydania:

Wrocław

Data wydania:

2016

Typ zasobu:

artykuł

Format:

application/pdf

Identyfikator zasobu:

doi:10.5277/oa160209

Źródło:

<sygn. PWr A3481II> ; kliknij tutaj, żeby przejść ; kliknij tutaj, żeby przejść

Język:

eng

Powiązania:

Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 46, 2016, nr 2 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki

Prawa:

Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)

Prawa dostępu:

Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku

Lokalizacja oryginału:

Politechnika Wrocławska