Title:

The impact of atomic layer deposition technological parameters on optical properties and morphology of Al2O3 thin films

Group publication title:

Optica Applicata

Creator:

Dobrzański, Leszek A. ; Szindler, Marek ; Szindler, Magdalena ; Hajduk, Barbara ; Kotowicz, Sonia

Contributor:

Urbańczyk, Wacław. Redakcja

Subject and Keywords:

optyka ; thin film ; aluminum oxide ; atomic layer deposition

Description:

Optica Applicata, Vol. 45, 2015, nr 4, s. 573-583

Publisher:

Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej

Place of publication:

Wrocław

Date:

2015

Resource Type:

artykuł

Format:

application/pdf

Resource Identifier:

doi:10.5277/oa150412

Source:

<sygn. PWr A3481II> ; click here to follow the link ; click here to follow the link

Language:

eng

Relation:

Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 45, 2015, nr 4 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki

Rights:

Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)

Access Rights:

Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku

Location:

Politechnika Wrocławska