Title:

Rysunek odręczny w procesie kształcenia architektów wnętrz

Group publication title:

Architectus

Title in english:

Freehand drawing in the interior design teaching process

Creator:

Kucharczyk-Brus, Beata ; Zabawa-Krzypkowska, Joanna

Contributor:

Łużyniecka, Ewa. Redakcja

Subject and Keywords:

architektura ; czasopisma ; rysunek odręczny ; rysunek architektoniczny ; program nauczania

Description:

Architectus : Pismo Wydziału Architektury Politechniki Wrocławskiej, 2018, nr 2 (54), s. 25-32

Abstrakt:

W artykule poruszono zagadnienia związane z procesem kształcenia w zakresie rysunku odręcznego na kierunku architektura wnętrz na Wydziale Architektury Politechniki Śląskiej. Przedstawiono program kształcenia w przeciągu całego cyklu studiów. Zawarto refleksje dotyczące zarówno konieczności przygotowania studentów w tym zakresie, jak i przełożenia treści zapisanych w programie na warsztat zawodowy przyszłych architektów. Głównym celem pracy jest określenie, w jaki sposób proces nauczania rysunku odręcznego rozwija umiejętności plastyczne – narzędzie umożliwiające przedstawienie własnej koncepcji projektowej przyszłym inwestorom. W jego realizacji wykorzystano obserwację uczestniczącą, analizę prac studenckich, analizę prac realizacyjnych. Omówione badania doprowadziły do konkluzji o istnieniu konieczności zintensyfikowania zadań z rysunku architektonicznego.

Publisher:

Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej

Place of publication:

Wrocław

Date:

2018

Resource Type:

artykuł

Resource Identifier:

doi:10.5277/arc180203

Source:

<sygn. PWr A5234III> ; click here to follow the link ; www.architectus.arch.pwr.wroc.pl ; click here to follow the link

Language:

eng ; pol

Relation:

Architectus : Pismo Wydziału Architektury Politechniki Wrocławskiej ; Architectus : Pismo Wydziału Architektury Politechniki Wrocławskiej, 2018 ; Architectus : Pismo Wydziału Architektury Politechniki Wrocławskiej, 2018, nr 2 (54)

Rights:

Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)

Access Rights:

Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku

Location:

Politechnika Wrocławska