Properties of AlNx thin films prepared by DC reactive magnetron sputtering
Group publication title: Creator:Stafiniak, Andrzej ; Muszyńska, Donata ; Szyszka, Adam ; Paszkiewicz, Bogdan ; Ptasiński, Konrad ; Patela, Sergiusz ; Paszkiewicz, Regina ; Tłaczała, Marek
Contributor:Gaj, Miron. Redakcja ; Urbańczyk, Wacław. Redakcja
Subject and Keywords:optyka ; aluminum nitride (AlN) ; thin films ; reactive magnetron sputtering ; alternative dielectrics
Description:Optica Applicata, Vol. 39, 2009, nr 4, s. 717-722
Abstrakt: Publisher:Oficyna Wydawnicza Politechniki Wrocławskiej
Place of publication: Date: Resource Type: Source:<sygn. PWr A3481II> ; click here to follow the link ; click here to follow the link
Language: Relation:Optica Applicata ; Optica Applicata, Vol. 39, 2009 ; Optica Applicata, Vol. 39, 2009, nr 4 ; Politechnika Wrocławska. Wydział Podstawowych Problemów Techniki
Rights:Wszystkie prawa zastrzeżone (Copyright)
Access Rights:Dla wszystkich w zakresie dozwolonego użytku
Location: